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Explore la création de photomasques, les méthodes d'exposition, l'écriture laser directe, la résolution et résiste au développement dans les applications MEMS.
Couvre l'écriture directe de laser pour la fabrication de micro-structure 3D utilisant des lasers étroitement concentrés et introduit le concept de microscopie stimulée de déplétion d'émission.
Explore le processus de gravure humide du verre et du silicium à l'aide de solutions à base de HF et de processus en salle blanche pour les etchants HF et BHF.
Explore la gravure anisotrope de films organiques et d'alliages d'Al, en mettant l'accent sur le rôle de Al2O3 dans la gravure d'Al et en présentant des exemples de procédés de gravure sèche.
Explore l'histoire de la lithographie par sonde thermique, le système Millipede, l'écriture AFM, la modélisation 3D et les techniques émergentes de nanostructuration.
Explore l'ingénierie de la réponse de phase dans les métasurfaces diélectriques en utilisant des nanostructures transparentes et des structures abruptes, ainsi que le processus de fabrication de nanofins très efficaces.
Explore les bases de la lithographie, les méthodes émergentes de nanostructuration et les applications dans les puces microélectroniques haut de gamme.
