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Cette séance de cours couvre les principes et les applications des interféromètres, tels que les interféromètres de Mach-Zehnder et de Sagnac, y compris leur utilisation dans la mesure de l'indice de réfraction et de la rotation. Il discute également des techniques de lithographie comme la lithographie d'interférence et la lithographie d'interférence d'EUV pour créer des nanostructures. L’instructeur explique le contrôle du contraste des images aériennes en lithographie interférométrique et présente des exemples de nanostructures 1D et 2D créées à l’aide de ces techniques.
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