Interféromètres : applications et lithographie

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Description

Cette séance de cours couvre les principes et les applications des interféromètres, tels que les interféromètres de Mach-Zehnder et de Sagnac, y compris leur utilisation dans la mesure de l'indice de réfraction et de la rotation. Il discute également des techniques de lithographie comme la lithographie d'interférence et la lithographie d'interférence d'EUV pour créer des nanostructures. L’instructeur explique le contrôle du contraste des images aériennes en lithographie interférométrique et présente des exemples de nanostructures 1D et 2D créées à l’aide de ces techniques.

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Séances de cours associées (33)

Concepts associés (22)

Interference lithography

Interference lithography (or holographic lithography) is a technique for patterning regular arrays of fine features, without the use of complex optical systems or photomasks. The basic principle is the same as in interferometry or holography. An interference pattern between two or more coherent light waves is set up and recorded in a recording layer (photoresist). This interference pattern consists of a periodic series of fringes representing intensity minima and maxima.

Common-path interferometer

A common-path interferometer is a class of interferometers in which the reference beam and sample beams travel along the same path. Examples include the Sagnac interferometer, Zernike phase-contrast interferometer, and the point diffraction interferometer. A common-path interferometer is generally more robust to environmental vibrations than a "double-path interferometer" such as the Michelson interferometer or the Mach–Zehnder interferometer.

Lithographie à faisceau d'électrons

L'utilisation d'un faisceau d'électrons pour tracer des motifs sur une surface est connue sous le nom de lithographie par faisceau d'électrons. On parle également de lithographie électronique. Par rapport à la photolithographie, l'avantage de cette technique est qu'elle permet de repousser les limites de la diffraction de la lumière et de dessiner des motifs avec une résolution pouvant aller jusqu'au nanomètre. Cette forme de lithographie a trouvé diverses formes d'application dans la recherche et l'industrie des semi-conducteurs et dans ce qu'il est convenu d'appeler les nanotechnologies.

Nanoimprint lithography

Nanoimprint lithography (NIL) is a method of fabricating nanometer scale patterns. It is a simple nanolithography process with low cost, high throughput and high resolution. It creates patterns by mechanical deformation of imprint resist and subsequent processes. The imprint resist is typically a monomer or polymer formulation that is cured by heat or UV light during the imprinting. Adhesion between the resist and the template is controlled to allow proper release.

Photolithographie

La photolithographie est l'ensemble des opérations permettant de transférer une image (généralement présente sur un masque) vers un substrat. Cette technique est très utilisée dans l'industrie du semi-conducteur. Les motifs de l'image ainsi transférée deviendront par la suite les différentes zones des composants électroniques (exemple : contact, drain...) ou les jonctions entre ces composants.