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Explore la synthèse du catalyseur par dépôt et précipitation, couvrant les principes, les applications, la (co-)précipitation, les zéolites, les supports de carbone et les pérovskites.
Explore les mécanismes de croissance de films minces, les considérations de films minces organiques, les techniques de dépôt et le dessin pour les appareils électroniques.
Examine les interactions ion-cible dans les processus de pulvérisation de PVD, couvrant le dépôt composé, les dommages de surface et les facteurs influençant les taux d'éjection des cibles.
Couvre le transport de masse dans la couche limite, le transfert de gaz vers le substrat, le calcul du taux de croissance du film et les résultats expérimentaux.
Explore les principes et les applications du dépôt de vapeur physique (PVD) dans les technologies de microfabrication, couvrant des sujets tels que la création de microstructures métalliques et l'efficacité de pulvérisation.
Explore la préparation de films minces, les mécanismes de croissance, les considérations de film organique, et les techniques de dépôt dans l'électronique.
