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Introduit les fondamentaux de l'impression par microcontact, les propriétés des timbres, les timbres hybrides en couches et les problèmes d'impression courants.
Explore la lithographie par sonde à l'échelle nanométrique, couvrant diverses méthodes et applications dans la modification de surface et la structuration.
Couvre les progrès récents de la magnétométrie, y compris la stabilité des skyrmions, le magnétisme des parois de domaine et le progrès des résonateurs.
Explore l'évolution de la micro-ingénierie et de la nano-ingénierie, en mettant l'accent sur l'utilisation du silicium comme matériau mécanique et l'application de l'AFM et de la T-SPL en nano-ingénierie.
Explore la création de photomasques, les méthodes d'exposition, l'écriture laser directe, la résolution et résiste au développement dans les applications MEMS.
Explore les corrections de l'effet de proximité dans la lithographie par faisceau d'électrons pour les petites et grandes caractéristiques, en soulignant l'importance de la modélisation de la fonction d'étalement du point de faisceau.
Explore la structure cristalline du silicium, l'anisotropie dans les taux de gravure, les mécanismes de gravure et les différents bains de gravure en micro et nanofabrication.
