Dépôt : Techniques de dépôt physique en phase vapeur (PVD)
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Examine les interactions ion-cible dans les processus de pulvérisation de PVD, couvrant le dépôt composé, les dommages de surface et les facteurs influençant les taux d'éjection des cibles.
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Explore les techniques de traitement des films minces, en mettant l'accent sur les avantages des dépôts de vapeurs chimiques, les modes de croissance, la DLA, le rôle du plasma et l'initiation des rejets.
Explore les mécanismes de croissance de films minces, les considérations de films minces organiques, les techniques de dépôt et le dessin pour les appareils électroniques.
