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Explore les techniques d'enlèvement et de dépôt de couches minces dans la technologie CMOS, couvrant la gravure humide, la gravure sèche, le polissage mécanique chimique et les méthodes de dépôt de couches minces.
Explore les principes et les applications du dépôt de vapeur physique (PVD) dans les technologies de microfabrication, couvrant des sujets tels que la création de microstructures métalliques et l'efficacité de pulvérisation.
Explore les techniques de traitement des films minces, en mettant l'accent sur les avantages des dépôts de vapeurs chimiques, les modes de croissance, la DLA, le rôle du plasma et l'initiation des rejets.
Couvre la gravure humide des couches sacrificielles en micro et nanofabrication, y compris les défis et les solutions pour la déformation de la microstructure et le diagnostic de stress.
Explore l'évolution, les propriétés et les applications des oxydes conducteurs transparents, y compris les défis dans les applications optoélectroniques et les stratégies de réduction des réflexions de surface dans les cellules solaires.
Explore la préparation de films minces, les mécanismes de croissance, les considérations de film organique, et les techniques de dépôt dans l'électronique.
