Echappage profond réactif de l'ion : structures à haut rapport d'aspect

Cette séance de cours couvre le processus de gravure en ions réactifs profonds à l'aide d'un réacteur à plasma couplé inductif, en mettant l'accent sur les dépôts de SF et de C4F8, les taux d'encéphalopathie spongiforme bovine et le temps total d'encéphalopathie spongiforme bovine. Il traite également du procédé Bosch, de la gravure sélective à sec et de la fabrication de structures à haut rapport d'aspect.