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Explore diverses techniques de gravure sèche pour le silicium et l'équipement utilisé dans le processus, y compris les sources de plasma RF et les graveurs en phase vapeur HF.
Explore la conception et la fabrication d'interfaces cerveau-ordinateur à l'aide de technologies à base de silicium et de matériaux flexibles, en mettant l'accent sur les techniques de fabrication clés et les propriétés des matériaux.
Explore la lithographie UV et DUV, les bases de la lithographie par faisceau d'électrons, les matériaux résistants et l'optique, en comparant EBL avec d'autres méthodes de lithographie.
Explore la conception et la fabrication d'un micro-actionneur bi-morphe et sa caractérisation thermomécanique à travers des applications de courant continu et alternatif.
Explore la structure cristalline du silicium, l'anisotropie dans les taux de gravure, les mécanismes de gravure et les différents bains de gravure en micro et nanofabrication.
Couvre la fabrication de dispositifs MEMS nanométriques et le fonctionnement du microscope de la force atomique pour mesurer les ultrapetites forces sur les particules.
