Explore les techniques d'enlèvement et de dépôt de couches minces dans la technologie CMOS, couvrant la gravure humide, la gravure sèche, le polissage mécanique chimique et les méthodes de dépôt de couches minces.
Couvre les fondamentaux et les techniques de dépôt de vapeur chimique (CVD), y compris le transfert de masse, le calcul du taux de croissance du film et diverses techniques de CVD.
Explore les dépôts de vapeur chimique amélioré par le plasma pour le traitement des films minces et son impact sur les propriétés des films et la qualité des matériaux.
Explore l'importance de la micro- et de la nanofabrication dans l'optomécanique, couvrant les processus clés et les défis dans la fabrication des appareils.
Explore la préparation de films minces, les mécanismes de croissance, les considérations de film organique, et les techniques de dépôt dans l'électronique.
Couvre le transport de masse dans la couche limite, le transfert de gaz vers le substrat, le calcul du taux de croissance du film et les résultats expérimentaux.