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Introduction de la spectroscopie par photoélectrons à rayons X (XPS) pour l'analyse de surface, couvrant les principes, les applications, le processus d'analyse et les techniques de profilage en profondeur.
Explore les principes fondamentaux de la spectroscopie par photoélectrons à rayons X, les applications, les défis et les techniques de pulvérisation cathodique pour l'analyse de surface.
Explore la mobilité dérivante, la conduction multiple de piégeage, l'influence des queues de bande et l'analyse XPS des structures de bande dans les matériaux électroniques.
Couvre la spectrométrie de photoélectrons à rayons X (XPS), une technique d'analyse de surface développée par Kai Siegbahn, expliquant ses composants, son mécanisme et ses méthodes d'analyse.
Explore les principes de la spectroscopie à rayons X et à photoélectrons ultraviolets, les applications et les études de cas sur les revêtements de TiO2 et les films dopés.
Explique la détermination de l'épaisseur du film à l'aide de techniques XPS et AES, couvrant les principes, l'instrumentation et les comparaisons analytiques.
Explore les méthodes d'analyse de surface à l'aide d'électrons, d'ions, d'atomes et de photons, en soulignant l'importance du ToF-SIMS pour une analyse de surface approfondie dans divers domaines.
