Introduction de la spectroscopie par photoélectrons à rayons X (XPS) pour l'analyse de surface, couvrant les principes, les applications, le processus d'analyse et les techniques de profilage en profondeur.
Explore les principes fondamentaux de la spectroscopie par photoélectrons à rayons X, les applications, les défis et les techniques de pulvérisation cathodique pour l'analyse de surface.
Explore les principes de la spectroscopie à rayons X et à photoélectrons ultraviolets, les applications et les études de cas sur les revêtements de TiO2 et les films dopés.
Explore les techniques avancées de caractérisation des polymères, en mettant l'accent sur les films minces, l'analyse de surface et les études d'interface.
Explique la détermination de l'épaisseur du film à l'aide de techniques XPS et AES, couvrant les principes, l'instrumentation et les comparaisons analytiques.
Explore les synchrotrons, les techniques de rayons X, XPS, XPD, les configurations expérimentales, les déplacements chimiques et les méthodes complémentaires.
Explore les synchrotrons, les lasers d'électrons libres à rayons X et leurs applications dans les spectroscopies photoélectroniques, y compris les variantes PSE à rayons X durs et PSE à pression ambiante.
Explore les méthodes d'analyse de surface à l'aide d'électrons, d'ions, d'atomes et de photons, en soulignant l'importance du ToF-SIMS pour une analyse de surface approfondie dans divers domaines.
