MEMS & Cleanroom: Des couches minces de matériaux et la création de vapeur
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AVERTISSEMENT : Le chatbot Graph n'est pas programmé pour fournir des réponses explicites ou catégoriques à vos questions. Il transforme plutôt vos questions en demandes API qui sont distribuées aux différents services informatiques officiellement administrés par l'EPFL. Son but est uniquement de collecter et de recommander des références pertinentes à des contenus que vous pouvez explorer pour vous aider à répondre à vos questions.
Couvre les fondamentaux et les techniques de dépôt de vapeur chimique (CVD), y compris le transfert de masse, le calcul du taux de croissance du film et diverses techniques de CVD.
Explore divers processus de dépôt chimique en phase vapeur, notamment APCVD, SACVD, LPCVD, UHV / CVD, PECVD et MOCVD, en se concentrant sur la croissance du film et les effets plasmatiques.
Explore les méthodes de croissance des couches minces organiques, la nucléation, la croissance des grains, l'alignement des cristaux et le recuit des vapeurs de solvant.
Explore les fondamentaux de la bioélectronique organique, y compris les matériaux à base de carbone, les techniques de fabrication et les interfaces bioélectroniques.
Explore la microfabrication de verre à l'aide de la gravure humide à l'acide fluorhydrique, couvrant les mécanismes de gravure, l'impact des additifs et les effets de surface.
Explore le traitement de films et de revêtements minces à l'aide de techniques sol-gel, de dépôts en phase vapeur, de techniques de pulvérisation et de méthodes de pulvérisation thermique.
Explore diverses techniques de gravure sèche pour le silicium et l'équipement utilisé dans le processus, y compris les sources de plasma RF et les graveurs en phase vapeur HF.
Explore la fabrication de dépôts de faisceaux d'électrons et les procédés de dépôt direct de métaux, en soulignant leur équipement, leurs avantages et leurs limites.
