Lithographie : Propriétés de résistance et méthodes d'exposition

Cette séance de cours couvre les concepts généraux de la lithographie, y compris le revêtement de résistance, le nettoyage de surface, l'adhésion de résistance et les méthodes d'exposition telles que la lithographie optique, la lithographie par faisceau d'électrons, la lithographie par rayons X et la lithographie par faisceau d'ions. Il discute également des propriétés de résistance telles que l'épaisseur de résistance, les tons de résistance, le contraste et les techniques de transfert de motif.