Séance de cours
Lithographie par faisceau d'électrons: Interactions et résistance au contraste
Description
Cette séance de cours couvre les interactions électron-échantillon en lithographie, en discutant de la diffusion du faisceau d'électrons dans la résine et le substrat, les effets de l'énergie du faisceau et de la masse atomique du substrat, les phénomènes de diffusion avant et arrière, et résister à l'élargissement de l'exposition. Il explore également le contraste de résistance, la sensibilité et la distribution de dose dans les résistances positives et négatives, soulignant l'importance du contraste pour la lithographie à haute résolution.
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