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Explore la création de photomasques, les méthodes d'exposition, l'écriture laser directe, la résolution et résiste au développement dans les applications MEMS.
Explore la fabrication de dispositifs micro / nanomécaniques, couvrant la libération, la sélectivité, la stimulation, le dépôt, la gravure, la lithographie et les techniques de croissance.
Couvre l'amélioration de la résolution en microscopie optique, en imagerie confocale et en marquage fluorescent, explorant l'histoire et les techniques de la microscopie à sonde à balayage.
Explore les systèmes de projection de masques, le micro-traitement laser, les structures submicroniques, les faisceaux gaussiens, les principes de guidage d'onde et l'interaction entre la lumière et les matériaux.
Explore la lithographie par sonde à balayage pour les techniques de structuration à l'échelle nanométrique et ses applications dans l'exposition à l'AFM, le DPN et l'oxydation améliorée en champ local.
Explore des méthodes de lithographie alternatives telles que la nanoimpression et la lithographie au pochoir pour la fabrication de nanofils et la structuration de surface exotique.