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Explore les techniques de gravure sèche dans le traitement des semi-conducteurs, des réacteurs à baril aux sources de plasma modernes comme ICP et ECR.
Couvre les configurations d'équilibre MHD, y compris les concepts de tokamak et de stellarator, les équations d'équilibre de force et les facteurs de sécurité.
Explore diverses techniques de gravure sèche pour le silicium et l'équipement utilisé dans le processus, y compris les sources de plasma RF et les graveurs en phase vapeur HF.
Explore les techniques de gravure au silicium, la fabrication du réseau Utah, les mesures d'impédance et les sondes de silicium actif pour les enregistrements neuraux.
Explore les processus de fabrication non conventionnels tels que le meulage, l'usinage par électrodécharge et la découpe au jet d'eau, y compris la modélisation et les processus connexes.
