Pulvérisation: Formation de plasma et dépôt de film mince
Graph Chatbot
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AVERTISSEMENT : Le chatbot Graph n'est pas programmé pour fournir des réponses explicites ou catégoriques à vos questions. Il transforme plutôt vos questions en demandes API qui sont distribuées aux différents services informatiques officiellement administrés par l'EPFL. Son but est uniquement de collecter et de recommander des références pertinentes à des contenus que vous pouvez explorer pour vous aider à répondre à vos questions.
Explore la synthèse du catalyseur par dépôt et précipitation, couvrant les principes, les applications, la (co-)précipitation, les zéolites, les supports de carbone et les pérovskites.
Discuter des mesures de lutte contre les inondations, y compris les réservoirs, les dérivations, les digues et les améliorations du chenal, en mettant l'accent sur les dommages attendus et l'analyse des risques.
Couvre les fondamentaux et les techniques de dépôt de vapeur chimique (CVD), y compris le transfert de masse, le calcul du taux de croissance du film et diverses techniques de CVD.
Explore les méthodes de croissance des couches minces organiques, la nucléation, la croissance des grains, l'alignement des cristaux et le recuit des vapeurs de solvant.
Explore divers processus de dépôt chimique en phase vapeur, notamment APCVD, SACVD, LPCVD, UHV / CVD, PECVD et MOCVD, en se concentrant sur la croissance du film et les effets plasmatiques.
Explore la conception et la fabrication d'un micro-actionneur bi-morphe et sa caractérisation thermomécanique à travers des applications de courant continu et alternatif.
Explore la microfabrication de verre à l'aide de la gravure humide à l'acide fluorhydrique, couvrant les mécanismes de gravure, l'impact des additifs et les effets de surface.
