Séance de cours

Lithographie : Concepts généraux et fabrication de masques

Description

Cette séance de cours présente la lithographie en expliquant les concepts généraux et la fabrication de masques de lithographie à l'aide d'un outil laser à écriture directe. Il couvre la lithographie UV, la lithographie par faisceau d'électrons et les lithographies alternatives émergentes, soulignant l'importance de transférer des formes géométriques à un matériau sensible au rayonnement pour définir des régions de circuits intégrés.

À propos de ce résultat
Cette page est générée automatiquement et peut contenir des informations qui ne sont pas correctes, complètes, à jour ou pertinentes par rapport à votre recherche. Il en va de même pour toutes les autres pages de ce site. Veillez à vérifier les informations auprès des sources officielles de l'EPFL.