Concept
Gravure ionique réactive
Séances de cours associées (42)
Techniques de gravure en silicone
Explore les techniques de gravure au silicium, la fabrication du réseau Utah, les mesures d'impédance et les sondes de silicium actif pour les enregistrements neuraux.
Microfabrication en verre par gravure humide
Explore la microfabrication de verre à l'aide de la gravure humide à l'acide fluorhydrique, couvrant les mécanismes de gravure, l'impact des additifs et les effets de surface.
Ion Beam EtchingMOOC: Micro and Nanofabrication (MEMS)
Introduit des graveurs de faisceau d'ions, combinant la pulvérisation cathodique physique avec l'activité chimique.
Gravure humide : verre et siliciumMOOC: Micro and Nanofabrication (MEMS)
Explore le processus de gravure humide du verre et du silicium à l'aide de solutions à base de HF et de processus en salle blanche pour les etchants HF et BHF.
Techniques de gravure à secMOOC: Micro and Nanofabrication (MEMS)
Explore les techniques de gravure sèche pour différents matériaux, y compris les processus continus, pulsés, cryogéniques et la gravure isotrope à l'aide de SF6.
Cristaux photoniques: Techniques de fabrication
Plonge dans les techniques de fabrication de cristaux photoniques, inspirés par des structures naturelles comme les ailes de papillon et les pierres opales.
Micro et nanofabrication: bases et techniquesMOOC: Micro and Nanofabrication (MEMS)
Couvre les bases des techniques de micro et nano fabrication pour les dispositifs MEMS.
Etch Stop TechniquesMOOC: Micro and Nanofabrication (MEMS)
Explore les techniques d'arrêt de gravure, y compris l'implantation B, les arrêts de gravure électrochimiques et les exemples de microusinage en vrac en micro et nanofabrication.
Plasmes industriels : applications et chimie
Explore les applications industrielles du plasma, les phénomènes de dégradation et les défis de chimie du plasma, y compris les réactions en phase gazeuse et les processus de transport.
Echappage profond réactif de l'ion : structures à haut rapport d'aspect
Explore la gravure en ions réactifs profonds pour les structures à haut rapport d'aspect et le processus Bosch.