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Explore les processus de fabrication non conventionnels tels que le meulage, l'usinage par électrodécharge et la découpe au jet d'eau, y compris la modélisation et les processus connexes.
Explore les processus de gravure humide, y compris la gravure anisotrope et isotrope, la microfabrication à membrane mince et les applications en microfabrication.
Explore la génération de plasma, la gaine ionique, la tension de polarisation CC et la conception d'électrodes dans les processus de micro et de nanofabrication.
Explore la conception et la fabrication d'un micro-actionneur bi-morphe et sa caractérisation thermomécanique à travers des applications de courant continu et alternatif.
Explore diverses techniques de gravure sèche pour le silicium et l'équipement utilisé dans le processus, y compris les sources de plasma RF et les graveurs en phase vapeur HF.
Explore la gravure anisotrope de films organiques et d'alliages d'Al, en mettant l'accent sur le rôle de Al2O3 dans la gravure d'Al et en présentant des exemples de procédés de gravure sèche.
Explore la formation de gaines, la gravure au plasma, la vitesse des ions et l'énergie dans les plasmas industriels, soulignant leur importance pour la fabrication électronique moderne.
Explore la création de photomasques, les méthodes d'exposition, l'écriture laser directe, la résolution et résiste au développement dans les applications MEMS.
