Gravure humide: Structure cristalline et anisotropie
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Explore la gravure anisotrope de films organiques et d'alliages d'Al, en mettant l'accent sur le rôle de Al2O3 dans la gravure d'Al et en présentant des exemples de procédés de gravure sèche.
Explore la conception et la fabrication d'un micro-actionneur bi-morphe et sa caractérisation thermomécanique à travers des applications de courant continu et alternatif.
Couvre les principaux problèmes de fabrication de la lithographie, les considérations d'exposition, les défis de développement et les limites de résolution.
Explore diverses techniques de gravure sèche pour le silicium et l'équipement utilisé dans le processus, y compris les sources de plasma RF et les graveurs en phase vapeur HF.
Explore les techniques de gravure au silicium, la fabrication du réseau Utah, les mesures d'impédance et les sondes de silicium actif pour les enregistrements neuraux.
Explore la détermination de la structure cristalline en utilisant la diffraction électronique 3D et ses applications en nanocristallographie, mettant l'accent sur les défis et les progrès.
Explore le processus de gravure humide du verre et du silicium à l'aide de solutions à base de HF et de processus en salle blanche pour les etchants HF et BHF.
