La gravure sèche : principes fondamentaux et applications
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Explore les applications industrielles du plasma, les phénomènes de dégradation et les défis de chimie du plasma, y compris les réactions en phase gazeuse et les processus de transport.
Explore les techniques de gravure au silicium, la fabrication du réseau Utah, les mesures d'impédance et les sondes de silicium actif pour les enregistrements neuraux.
Explore la génération de plasma, la gaine ionique, la tension de polarisation CC et la conception d'électrodes dans les processus de micro et de nanofabrication.
Explore la gravure anisotrope de films organiques et d'alliages d'Al, en mettant l'accent sur le rôle de Al2O3 dans la gravure d'Al et en présentant des exemples de procédés de gravure sèche.
Explore les techniques de gravure sèche dans le traitement des semi-conducteurs, des réacteurs à baril aux sources de plasma modernes comme ICP et ECR.
Explore les processus de gravure humide, y compris la gravure anisotrope et isotrope, la microfabrication à membrane mince et les applications en microfabrication.
Explore les techniques d'arrêt de gravure, y compris l'implantation B, les arrêts de gravure électrochimiques et les exemples de microusinage en vrac en micro et nanofabrication.
Explore le processus de gravure humide du verre et du silicium à l'aide de solutions à base de HF et de processus en salle blanche pour les etchants HF et BHF.
